Surface & Interface Scientist in der Schichtentwicklung und -analyse (m/w/x)

Enabler für kleinere, leistungsfähigere und energieeffizientere Mikrochips.
Arbeiten, wo das Morgen entsteht.
Was darf bei keinem Smartphone fehlen?
Genau, der Mikrochip - das Herzstück eines jeden elektronisch gesteuerten Systems. Rund 80 Prozent aller Mikrochips weltweit werden mit ZEISS Technologien gefertigt. ZEISS ist Technologieführer im Bereich Halbleiterfertigungs-Equipment. Mit hochpräzisen Lithographie-Optiken, Photomasken-Systemen und Lösungen für die Prozesskontrolle ermöglicht ZEISS die Herstellung von immer kleineren, leistungsfähigeren und energieeffizienteren Mikrochips - und prägt so mit seinen Innovationen das Zeitalter der Mikro- und Nanoelektronik entscheidend mit.

Ihre Rolle

• Sie werden in einem interdisziplinären Experten-Team kniffligen Fragestellungen zur Lebensdauer-Stabilität von (EUV)-Schichten mittels vielfältiger Analytik auf den Grund gehen
• Sie spüren durch wissenschaftliche Detektivarbeit Wechselwirkungen an Grenzflächen bis in den Sub-Nanometer-Bereich auf und leiten daraus ab, wie (Dünn-)Schichtsysteme weiter optimiert werden können
• Sie planen und organisieren experimentelle Lebensdauer-Versuchsreihen und verstehen dadurch die komplexen Zusammenhänge zwischen Fertigungsprozessen, Sauberkeit und Reinigungsprozessen auf die Schicht-Lebensdauer
• Sie treiben Ihre Ideen gemeinsam mit internen und externen Partnern voran und gestalten die Weiterentwicklung von (EUV)-Schichten für zukünftige Anforderungen mit
• Sie unterstützen als kompetenter Ansprechpartner die Fertigung bei Lebensdauer-Fragestellungen- und Tolerierungen

Ihr Profil

• ein abgeschlossenes natur- oder ingenieurwissenschaftliches Studium (z. B. physikalische Chemie, Physik, Materialwissenschaften, Nanotechnologie), vorzugsweise mit Promotion
• mehrjährige Erfahrung in der Schicht-, Defekt- oder Sauberkeitsanalyse (z. B. Lichtmikroskopie, FIB-SEM, XPS, TOF-SIMS, AFM, STM, TEM, XRD, etc.)
• Kenntnisse auf den Gebieten Surface Science (z. B. heterogene Katalyse, Struktur-Eigenschaftsbeziehungen), Korrosion, Laser Damage von Schichten sowie Beschichtungstechnologie, speziell im Ultrahochvakuum
• Teamgeist, Kreativität und Freude am eigenverantwortlichen und selbstständigen Arbeiten
• ein hohes Maß an Kommunikationsstärke, ein strukturierter Arbeitsstil und hohe Belastbarkeit in einem dynamischen Umfeld
• verhandlungssichere Deutsch- und Englischkenntnisse

Your ZEISS Recruiting Team:
Jonas Weickenmeier, Oliver Reith